%34تخفیف

دانلود پروژه: بررسی مکانیزم‌های پسیواسیون و خوردگی‌های موضعی بر روی آلیاژ g-TiAl با استفاده از تکنیک‌های پیشرفته الکتروشیمیایی

تعداد 149صفحه در فایل word

بررسی مکانیزم‌های پسیواسیون و خوردگی‌های موضعی بر روی آلیاژ g-TiAl با استفاده از تکنیک‌های پیشرفته الکتروشیمیایی

چکیده

در این تحقیق به بررسی رفتار پسیواسیون و شناسایی فیلم پسیو شکل گرفته بر روی ترکیب بین فلزی گاما تیتانیوم آلومیناید (Ti-51at%Al) در اسید سولفوریک 05/0 مولار پرداخته شده است. از تکنینک‌های الکتروشیمیایی پلاریزاسیون، کرونوآمپرومتری، ولتامتری چرخه‌ای و امپدانس الکتروشیمیایی برای تعیین رفتار خوردگی و پسیواسیون و از تست متشاتکی برای تعیین خواص الکترونیکی فیلم پسیو و نهایتا از آنالیز طیف نگاری فوتوالکترون اشعه ایکس (XPS) برای تعیین ترکیب فیلم پسیو استفاده شده است. بر اساس نتایج کرونوآمپرومتری، مشخص شد که فیلم پسیو روی آلیاژ g-TiAl  در محدوده پتانسیل 0 تا mVSCE 2000 مطابق قانون مکعبی رشد می‌کند و در پتانسیل‌های بالاتر مکانیزم رشد به تدریح تبدیل به حالت توانی می‌گردد. نتایج امپدانس الکتروشیمیایی نشان داد که مدار معادل منحنی‌ها دارای دو ثابت زمانی برای حالت خازنی و حالت القایی است که لوپ خازنی فرکانس بالا مربوط به انتقال عیوب در داخل فیلم پسیو در اثر میدان الکتریکی قوی و لوپ القایی در فرکانس‌های میانی مربوط به آزادسازی بار منفی سطح که به موجب انباشتگی جاهای خالی کاتیونی در فصل مشترک فیلم/محلول ایجاد می‌گردد، می‌باشد. بر اساس نتایج حاصل از XPS و EIS میزان ثابت دی‌الکتریک فیلم پسیو آندی، ε، حدود 150 بدست آمد که دلیل آن وجود اکسیدهای مختلف تیتانیوم با درجات اکسیداسیون مختلف و نیز حضور مقادیر عمده اکسید آلومینیوم می‌باشد. همچنین نتایج آنالیز XPS، نسبت آلومینیوم به تیتانیوم در عمق‌های مختلف برای پتانسیل  mVSCE600+ بیشترین مقدار و برای mVSCE 1500+ کمترین مقدار را نشان داد. بر اساس نمودار پلاریزاسیون و جریان پایای آندی اینطور نتیجه‌گیری شد که برای فیلم مقاوم‌تر که جریان آندی آن کم‌تر است میزان اکسید تیتانیوم بیشتر و اکسید آلومینیوم کمتری است.

مشخص شد که لایه اکسیدی مانند یک نیمه‌هادی نوع n  عمل می‌کند و غلظت دهنده­های محاسبه شده توسط تست متشاتکی از بزرگی cm-3 1019 بدست آمد که اندکی بزرگتر از آنچه برای فیلم تشکیل شده بر روی تیتانیوم محاسبه شده است می‌باشند. این مقادیر نشان داد که فیلم دارای هدایت بهتری نسبت به فیلم تشکیل شده روی تیتانیوم است و این فیلم تا پتانسیل‌های بیش از  mVSCE 5000+ مقاومت خود را حفظ کرده و دچار شکست نمی‌شود.

واژگان کلیدی: گاما تیتانیوم آلومیناید (γTiAl)، خوردگی، پسیواسیون، EIS، XPS

عنوان                                                                                                                           صفحه

چکیده. د‌

فهرست اشکال.. ز‌

فهرست جداول.. ع‌

1- فصل اول-مقدمه. 1

2- فصل دوم-تئوری و مروری بر منابع.. 5

2-1- تیتانیوم. 6

2-2- کاربرد تیتانیوم در اسید سولفوریک… 7

2-3- ترکیبات Ti-Al وTiAl -γ. 9

2-4- انواع ريزساختارها در آلياژهايTiAl -γ و خواص آن‌ها 9

2-5- مقاومت به خوردگی TiAl 11

2-6- تشکیل و انحلال فیلم پسیو روی آلیاژهای پایه تیتانیوم. 14

2-6-1- ترسیب عناصر آلیاژی در فیلم پسیو. 16

2-6-2- شکست فیلم پسیو. 17

2-6-3- مدل‌های پدیده پسیواسیون.. 18

2-7- الکتروشیمی نیمه‌هادی‌ها 22

2-8- خواص نیمه‌هادی فیلم‌های پسیو. 26

2-9- پسیواسیون تیتانیوم. 32

2-10- پسیواسیون تیتانیوم آلومیناید گاما 35

2-11- مدل سازی امپدانس فلزات پسیو. 37

2-11-1- رهیافت بار سطح.. 39

2-12- کاربرد XPS در مطالعات پسیواسیون.. 47

2-13- نوآوری و اهداف تحقیق.. 50

3- فصل سوم-روش پژوهش…. 51

3-1- مقدمه: 52

3-2- مواد مورد بررسی.. 52

3-2-1- نمونه‌های g-TiAl 52

3-2-2- نمونه تیتانیم (Ti) 58

3-2-3- نمونه آلومینیوم (Al) 59

3-3- تهیه محلول‌ها 59

3-4- آزمایش‌های الکتروشیمیایی.. 59

3-5- آنالیز XPS. 61

4- فصل چهارم-نتایج و بحث… 62

4-1- بررسی خوردگی و پسیواسیون آلیاژ γ-TiAl در محلول اسید سولفوریک 05/0 مولار. 63

4-1-1- تاثیر نرخ روبش…. 73

4-1-2- آزمایش‌های پتانسیواستاتیکی.. 77

4-1-3- نتایج امپدانس…. 86

4-1-4- نتایج XPS. 101

4-1-5- خواص نیمه‌هادی فیلم‌های پسیو آندی.. 118

5- فصل پنجم-نتیجه گیری.. 135

6- فصل ششم-مراجع.. 139

Abstract: II

فهرست اشکال

عنوان                                                                                                                           صفحه

شکل ‏2‑1- ريزساختارشماتيکي (a تک‌فاز گاما b) دوپلکس c)کاملا لايه‌اي[16]. 10

شکل ‏2‑2-  نمودار پتانسیل-pH برای تیتانیوم[22]. 12

شکل ‏2‑3- نمودار پتانسیل-pH برای آلومینیوم [25]. 13

شکل ‏2‑4- رشد فیلم اکسیدی با مکانیزم جابجایی مکان M و O که به ترتیب نشانگر اتمهای فلز و اکسیژن هستند [4]. 20

شکل ‏2‑5 تشکیل باندها در جامدات از اربیتالهای اتمی برای اتمهای منفرد [51]. 24

شکل ‏2‑6 نمایش شماتیک سطوح انرژی نیمه‌هادی نوع n (a) و نیمه‌هادی نوع p (b) [51]. 24

شکل ‏2‑7 خمش باند برای یک نیمه هادی نوع n (a) و نیمه هادی نوع p (b) در تعادل با الکترولیت [51]  26

شکل ‏2‑8 اثر تغییر پتانسیل اعمالی (E) روی لبه های باند در داخل یک نیمه هادی نوع n (a) E>Efb، (b) E=Efb و (c) E<Efb [51]. 26

شکل ‏2‑9-  نمایش ساختار باند مسطح و انتقال الکترون از میان شکاف باند[47]. 27

شکل ‏2‑10- نمایش توزیع پتانسیل و بار درون یک فیلم نیمه‌هادی. الف) منطقه فضای بار درون یک فیلم پسیو نیمه‌هادی. ب) توزیع پتانسیل متناظر که Vfb پتانسیل باند مسطح، OHP صفحه هلمهولتز خارجی و jH افت پتانسیل روی لایه هلمهولتز می‌باشد [47]. 28

شکل ‏2‑11- مدل نیمه‌هادی برای فیلم‌های پسیو. الف) مدل اتصال p-n ب) مدل اتصال  p-i-n [53]. 30

شکل ‏2‑12- نمودارهای پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی در محلولهای اسیدی در pHهای مختلف در نرخ روبش mVs-1 1 [58]. 32

شکل ‏2‑13- ارتباط خطی بین ضخامت فیلم پسیو در حالت پایا (LSS) و پتانسیل تشکیل فیلم [58]. 33

شکل ‏2‑14-شماتیک تبدیل لایه اکسیدی سطح تیتانیوم به صورت تابعی از پتانسیل (در این شکل SC لایه نیمه هادی و DI لایه دی الکتریک است.)[63]. 34

شکل ‏2‑15-مقایسه پلاریزاسیون آندی تیتانیوم آلومینایدها و تیتانیوم خالص در Na2SO4 25/0 مولار در pH 6 [24]  35

شکل ‏2‑16-تاثیر غلظت (درصد اتمی) تیتلنیوم روی پتانسیل حفره‌زایی آلومینایدها در محلول 5/0 مولار کلرید سدیم  در pH 6. [24]. 36

شکل ‏2‑17-منحنی‌های پتانسیودینامیکی برای Ti، Al، Ti3Al و TiAl در اسید سولفوریک 2 نرمال [28]  36

شکل ‏2‑18-تاثیر غلظت (درصد وزنی) آلومینیوم روی دانسیته جریان پسیو حالت پایا [28]. 37

شکل ‏2‑19-a-شماتیک مدل پیشنهاد شده برای پسیواسیون فلزات و آلیاژها در محلول‌های اسیدی غلیظ. b-مدار الکتریکی معادل متناظر با پاسخ امپدانس فصل مشترک محلول/فلز[72]. 38

شکل ‏2‑20-a- شماتیک فرآیندهای سیستم  فلز/فیلم آندی/الکترولیت مطابق با رهیافت بار سطح b-توزیع پیشنهاد شده غلظت تهی‌جای‌های اکسیژن و فلزی در فیلم آندی c-مدار معادل پاسخ امپدانس پیش بینی شده با استفاده از رهیافت بار سطح[72]. 39

شکل ‏2‑21- طیف ظرفیت خازنی در محور مختلط در شرایط پتانسیل مدار باز پس آندایز شدن بیسموت در الکترولیت گلیکول برات به همراه منحنی بدست آمده از تطابق با رابطه حاصل از رهیافت بار سطح (خط توپر) [84]  46

شکل ‏2‑22- طیف‌های امپدانس برای بیسموت در اسید سولفوریک 2 مولار و نشان دهنده وابستگی به پتانسیل در محدوده پسیو[82]. 46

شکل ‏2‑23-طیف XPS با قدرت تفکیک بالا برای Ti2p: (a) بالاترین سطح، (b) پس از چنیدین سیکل اسپاترینگ با آرگون، (c) پس از 20 سیکل اسپاترینگ با آرگون و (d) پروفایل غلظتی حالت‌های مختلف اکسیداسیون تیتانیوم برای Ti3Al پسیو شده در NaOH [28]. 48

شکل ‏2‑24- تغییرات فوتوپیک O1s برای فیلم اکسیدی شکل گرفته در نرخ روبش‌های مختلف به ترتیب در 2/0، 1، 10 و mVs-1 20 [94]. 49

شکل ‏2‑25- اکسیدی نسبت O2- به OH به صورت تابعی از نرخ روبش [94]. 50

شکل ‏3‑1- نمودار فازی دوتایی آلومینیوم و تیتانیوم[95]. 54

شکل ‏3‑2- تصاویر متالوگرافی از ریزساختار شمش ریخته شده پیش از عملیات همگن سازی.. 55

شکل ‏3‑3-  تصاویر متالوگرافی از ریزساختار شمش ریخته شده پس از همگن سازی در اتمسفر خلا.. 56

شکل ‏3‑4- تصاویر میکروسکوپ الکترونی از ساختار ترکیب Ti-48Al-2Cr، الف-هم محور، ب-لایه ای [2]  57

شکل ‏3‑5- طیف پراش اشعه ایکس از شمش ریخته شده پس از عملیات همگن سازی به مدت 70 ساعت    58

شکل ‏3‑6- سل مورد استفاده جهت آزمایش‌های الکتروشیمیایی.. 60

شکل ‏4‑1- نمودار پلاریزاسیون سیکلی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s1. 64

شکل ‏4‑2- نمودار پلاریزاسیون سیکلی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s 1 (نمایش لگاریتمی جریان) 64

شکل ‏4‑3- نمودار پلاریزاسیون سیکلی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s 10 برای پنج سیکل اول.. 65

شکل ‏4‑4- نمودار پلاریزاسیون سیکلی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s 10 برای پنج سیکل اول (نمایش لگاریتمی جریان) 66

شکل ‏4‑5- نمودار پلاریزاسیون سیکلی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 5/0 مولار در سرعت روبش mV/s 1. 67

شکل ‏4‑6- نمودار پلاریزاسیون سیکلی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 5/0 مولار در سرعت روبش mV/s 1 (نمایش لگاریتمی جریان) 67

شکل ‏4‑7- نمودار پلاریزاسیون سیکلی تیتانیوم در محیط اسید سولفوریک 5/0 مولار در سرعت روبش mV/s 1  68

شکل ‏4‑8- نمودار پلاریزاسیون سیکلی تیتانیوم در محیط اسید سولفوریک 5/0 مولار در سرعت روبش mV/s 1 (نمایش لگاریتمی جریان) 68

شکل ‏4‑9- نمودار پلاریزاسیون ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش‌های مختلف… 69

شکل ‏4‑10- نمودار پلاریزاسیون ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s 01/0. 70

شکل ‏4‑11- نمودار پلاریزاسیون ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما، تیتانیوم و آلومینیوم در اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s 1. 72

شکل ‏4‑12- نمودار پلاریزاسیون تیتانیوم آلومیناید گاما و تیتانیوم خالص تجاری در اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s 10. 73

شکل ‏4‑13- نمودار پلاریزاسیون تیتانیوم خالص تجاری در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش  1 و  mV/s0 1. 73

شکل ‏4‑14- نمودار پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی بر روی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در نرخ روبش‌های مختلف… 74

شکل ‏4‑15- نمودار تغییرات لگاریتم جریان پسیو و جریان بحرانی نسبت به لگاریتم نرخ روبش پتانسیل مستخرج از نمودارهای پلاریزاسیون تیتانیوم آلومیناید گاما در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 75

شکل ‏4‑16- نمودار تغییرات لگاریتم جریان پسیو و نسبت نرخ روبش پتانسیل به دانسیته جریان پسیو مستخرج از نمودارهای پلاریزاسیون تیتانیوم آلومیناید گاما در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 76

شکل ‏4‑17- نمودار پتانسیواستاتیک (کرونوآمپرومتری) بر روی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در پتانسیل‌های مختلف… 78

شکل ‏4‑18- نمودار پتانسیواستاتیک (کرونوآمپرومتری) بر روی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در پتانسیل‌های مختلف… 79

شکل ‏4‑19- نمایش لگاریتمی نمودار پتانسیواستاتیک (کرونوآمپرومتری) بر روی ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در پتانسیل VSCE 4+. 80

شکل ‏4‑20- نمایش لگاریتمی نمودار پتانسیواستاتیک (کرونوآمپرومتری) بر روی تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار. 81

شکل ‏4‑21- نمایش لگاریتمی نمودار پتانسیواستاتیک (کرونوآمپرومتری) بر روی تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار. 82

شکل ‏4‑22- تغییرات شیب منحنیهای رسم شده برای حالت لگاریتمی نمودارهای پتانسیواستاتیک در دومنطقه اول و دوم  83

شکل ‏4‑23- نمودار جریان حالت پایا پس از یک ساعت قرار گرفتن در پتانسیلهای مختلف برای ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار. 85

شکل ‏4‑24- نمودار نایکوئیس و بد نمونه پسیو شده در پتانسیل 1 ولت نسبت به الکترود مرجع کالومل بر روی آلیاژ تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار پس از یک ساعت پسیواسیون در همین پتانسیل   86

شکل ‏4‑25- منحنیهای  امپدانس نمونه تیتانیوم آلومیناید گاما پسیو شده در پتانسیل 1 ولت نسبت به الکترود مرجع کالومل در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار به همراه نتایج فیت با مدار نشان داده شده. 87

شکل ‏4‑26- مدار معادل مورد استفاده برای فیت داده‌های امپدانس در منطقه ترانس پسیو برای فولاد زنگ نزن 316 در اسید سولفوریک 05/0 مولار [104]. 88

شکل ‏4‑27- نمودارهای امپدانس در پتانسیل 8/0 ولت نسبت به الکترود مرجع کالومل بر روی آلیاژ تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار پس از یک ساعت پسیواسیون در همین پتانسیل به همراه منحنی فیت مدار  88

شکل ‏4‑28- مدار معادل استفاده شده برای فیت منحنیهای امپدانس پس از پسیواسیون. 89

شکل ‏4‑29- تبدیل کرامرز-کرونیگ برای مولفههای حقیقی و موهومی امپدانس γ-TiAl پسیو در پتانسیل VSCE 8/0  90

شکل ‏4‑30- نمودار پتانسیل-لگاریتم دانسیته جریان حاصل از آزمایش پتانسیواستاتیک پس از یک ساعت و نیز پتانسیودینامیک با نرخ روبش mV/s 1 برای γ-TiAl در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 93

شکل ‏4‑31- نمودار تغییرات عنصر مداری Rt در پتانسیل‌های پسیواسیون مختلف… 94

شکل ‏4‑32- نمودار تغییرات عنصر مداری Y0 در پتانسیل‌های پسیواسیون مختلف… 94

شکل ‏4‑33- نمودار تغییرات ضخامت فیلم اکسیدی شکل گرفته در پتانسیل‌های تشکیل مختلف… 96

شکل ‏4‑34- نمودار تغییرات عنصر مداری N در پتانسیل‌های پسیواسیون مختلف… 96

شکل ‏4‑35- نمودار تغییرات عنصر مداری LSC در پتانسیل‌های پسیواسیون مختلف… 97

شکل ‏4‑36- نمودار تغییرات عنصر مداری RL در پتانسیل‌های پسیواسیون مختلف… 98

شکل ‏4‑37- نمودار تغییرات پلاریزه شوندگی فصل مشترک فیلم/محلول، α، در پتانسیل‌های پسیواسیون مختلف    99

شکل ‏4‑38- نمودار تغییرات قدرت میدان حالت پایا، ES، در پتانسیل‌های پسیواسیون مختلف… 100

شکل ‏4‑39 طیف XPS از سطح نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیلهای مختلف در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 101

شکل ‏4‑40 طیف XPS از سطح نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به یک مدت ساعت در پتانسیلهای مختلف در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 102

شکل ‏4‑41 طیف XPS با قدرت تفکیک بالا را برای منطقه مربوط به Ti2p برای حالت سطح (الف)، سطح اسپاتر شده به مدت 10 ثانیه (عمق 9/2 نانومتری) (ب)، سطح اسپاتر شده به مدت 80 ثانیه (عمق 23 نانومتری) (ج) و سطح اسپاتر شده به مدت 230 ثانیه (عمق 67 نانومتری) (د) نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 103

شکل ‏4‑42 پروفیل عمقی برای درجات اکسیداسیون مختلف تیتانیوم حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  105

شکل ‏4‑43 طیف XPS با قدرت تفکیک بالا برای منطقه مربوط به Al2p برای سه عمق مختلف نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  105

شکل ‏4‑44 طیف XPS با قدرت تفکیک بالا را برای منطقه مربوط به Al2p برای سطح اسپاتر شده به مدت 190 ثانیه (عمق 55 نانومتری) نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 106

شکل ‏4‑45 طیف XPS با قدرت تفکیک بالا برای منطقه مربوط به O1s برای سه عمق مختلف نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  107

شکل ‏4‑46 طیف XPS با قدرت تفکیک بالا برای منطقه مربوط به O1s برای سطح نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  107

شکل ‏4‑47 پروفیل عمقی برای عناصر تشکیل دهنده فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  108

شکل ‏4‑48 تغییرات نسبت آلومینیوم به تیتانیوم نسبت به فاصله از سطح برای فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 5000+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 109

شکل ‏4‑49 پروفیل عمقی برای عناصر تشکیل دهنده فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 1500+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  110

شکل ‏4‑50 تغییرات نسبت آلومینیوم به تیتانیوم نسبت به فاصله از سطح برای فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 1500+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 111

شکل ‏4‑51 پروفیل عمقی برای درجات اکسیداسیون مختلف تیتانیوم حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت ساعت در پتانسیل mVSCE 1500+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  111

شکل ‏4‑52 طیف XPS با قدرت تفکیک بالا را برای منطقه مربوط به O1s برای حالت سطح (الف)، سطح اسپاتر نشده (عمق 0 نانومتری) (ب)، سطح اسپاتر شده به مدت 120 ثانیه (عمق 23 نانومتری) نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 1500+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  112

شکل ‏4‑53 تغییرات نسبت اکسید به هیدروکسید در فیلم سطحی به فاصله از سطح برای فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 1500+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 113

شکل ‏4‑54 پروفیل عمقی برای عناصر تشکیل دهنده فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 600+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار  114

شکل ‏4‑55 تغییرات نسبت آلومینیوم به تیتانیوم نسبت به فاصله از سطح برای فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 600+ در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 114

شکل ‏4‑56 پروفیل عمقی برای عناصر تشکیل دهنده فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 200- در اسید سولفوریک 05/0 مولار  115

شکل ‏4‑57 تغییرات نسبت آلومینیوم به تیتانیوم نسبت به فاصله از سطح برای فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 200-  در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 115

شکل ‏4‑58 پروفیل عمقی برای عناصر تشکیل دهنده فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 600- در اسید سولفوریک 05/0 مولار  116

شکل ‏4‑59 تغییرات نسبت آلومینیوم به تیتانیوم نسبت به فاصله از سطح برای فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک به مدت یک ساعت در پتانسیل mVSCE 600-  در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 116

شکل ‏4‑60 تغییرات نسبت آلومینیوم به تیتانیوم نسبت به فاصله از سطح برای فیلم پسیو حاصل از نتایج XPS  برای نمونه γ-TiAl پسیو شده به صورت پتانسیواستاتیک در پتانسیل‌های مختلف در اسید سولفوریک 05/0 مولار  117

شکل ‏4‑61 تغییرات نسبت آلومینیوم به تیتانیوم  و جریان پسیو برای فیلم‌های تشکیل شده در پتانسیل‌های مختلف برای نمونه γ-TiAl در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 118

شکل ‏4‑62 تشت متشاتکی بر روی γ-TiAl در اسید سولفوریک 05/0 مولار پس از یک ساعت پسیواسیون آندی پتانسیواستاتیک در پتانسیل mV 1000+ در دو روبش کاتدی و آندی. نمودار بر اساس مدار RSCSC و میزان  برابر با  2(-ωZ”) در نظر گرفته شده است. 123

شکل ‏4‑63 اثر فرکانس در تشت متشاتکی برای γ-TiAl در اسید سولفوریک 05/0 مولار پس از یک ساعت پسیواسیون آندی پتانسیواستاتیک در پتانسیل mV 400+. 124

شکل ‏4‑64 غلظت دهنده (N(D)) اندازه گیری شده در فرکانسهای مختلف برای γ-TiAl پسیو شده در اسید سولفوریک 05/0 مولار پس از یک ساعت پسیواسیون پتانسیواستاتیک در پتانسیلهای آندی مختلف… 126

شکل ‏4‑65 پتانسیل باند مسطح (E(FB)) اندازه گیری شده در فرکانسهای مختلف برای γ-TiAl پسیو شده در اسید سولفوریک 05/0 مولار پس از یک ساعت پسیواسیون پتانسیواستاتیک در پتانسیلهای آندی مختلف    127

شکل ‏4‑66 مدل اصلاح شده عیب نقطه‌ای برای واکنش‌های تولید و مصرف تهیجای‌ها درون فیلم پسیو  130

شکل ‏4‑67مدل عیب نقطهای برای تولید و نابودی تهیجایها درون فیلم پسیو TiO2  (Ti=اتم فلزی تیتانیوم، TiTi=کاتیون تیتانیوم در موضع کاتیونی، OO=یون اکسیژن در موضع آنیونی، VTi4-=تهیجای کاتیون Ti4+، VO2+=تهیجای آنیون اکسیژن و VTi=تهیجای فلز تیتانیوم) 131

فهرست جداول

عنوان                                                                                                                           صفحه

جدول‏2‑1- رفتار خوردگی تیتانیوم [3]. 7

جدول‏2‑2- خواص مکانيکي و فيزيکي ترکيب بين‌فلزي γ-TiAl [11,12]. 9

جدول‏3‑1- آنالیز کوانتومتری (اسپکترومتری نشری) فلز تیتانیوم خالص (مقادیر به درصد وزنی است) 59

جدول‏3‑2- آنالیز کوانتومتری (اسپکترومتری نشری) فلز آلومینیوم خالص (مقادیر به درصد وزنی است) 59

جدول‏4‑1- پارامترهای استخراج شده از نمودارهای پلاریزاسیون برای ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش‌های متفاوت.. 70

جدول‏4‑2- پارامترهای استخراج شده از نمودارهای پلاریزاسیون برای ترکیب تیتانیوم آلومیناید گاما، تیتانیوم و آلومینیوم در محیط اسید سولفوریک 05/0 مولار در سرعت روبش mV/s 1. 72

جدول‏4‑3- پارامترهای استخراج شده از فیت منحنی های امپدانس با مدار شکل ‏4‑28. 92

جدول‏4‑4- مقادیر پارامتر محاسبه شده در مرجع [113] بر اساس مدل عیب نقطه‌ای بر روی نتایج حاصل از امپدانس الکتروشیمیایی فیلم اکسید تیتانیوم آندی رشد داده شده در اسید سولفوریک 5/0 مولار در پتانسیل‌های مختلف    99

جدول‏4‑5- انرژی بستگی سطوح انرژی الکترون‌های تیتانیوم، آلومینیوم و اکسیژن در γ-TiAl پسیو شده در اسید سولفوریک 05/0 مولار. 104

قبلا حساب کاربری ایجاد کرده اید؟
گذرواژه خود را فراموش کرده اید؟
Loading...
enemad-logo