%34تخفیف
بررسی تأثیر گاز NO2 بر لایه های نازک و ضخیم نانوساختار سیلیکان متخلخل
تعداد 140صفحه در فایل word
کارشناسی ارشد
فیزیک حالت جامد
عنوان
بررسی تأثیر گاز NO2 بر لایه های نازک و ضخیم نانوساختار سیلیکان متخلخل
چکیده
لایه های سیلیکان متخلخل به وسیله ی آندیزاسیون الکتروشیمیایی سیلیکان تک بلوری با استفاده از محلول های شامل اسیدهیدروفلوریک ساخته شده اند.
ماده ی اولیه، یک ویفر سیلیکان نوع p با ناخالصی بالا و دارای جهت بلوری (100) و مقاومت ویژه ی بین 3-1 بوده است.
قبل از آندیزاسیون، اتصال اهمیک آلومینیوم با استفاده از روش تبخیر در خلأ بر پشت ویفر سیلیکان لایه نشانی شده است.
در این روش، الکترولیت حاوی اسیدهیدروفلوریک %40-38 می باشد که با دی متیل فرمامید رقیق شده است.
در این کار، دو نوع از نمونه های نانوساختار سیلیکان متخلخل ساخته ایم. نوع اول با استفاده از زمان های آندیزاسیون بیشتر که منجر به لایه های متخلخلی با ضخامت بالا می شود، در حالی که در نوع دوم در مدت زمان های آندیزاسیون کوتاه تر لایه هایی با ضخامت کمتر تشکیل شده است.
نمونه های سیلیکان متخلخل نسبت به گاز NO2 بسیار حساس می باشند. هدایت الکتریکی لایه های سیلیکان متخلخل به ضخامت لایه ی متخلخل بستگی دارد.
حضور گاز NO2 تغییرات متضادی را بر لایه های نازک و ضخیم نانوساختارهای سیلیکان متخلخل نشان می دهد.
کلمات کلیدی: سیلیکان متخلخل، آندیزاسیون الکتروشیمیایی، نانوساختار، ضخامت، نیتروژن دی اکسید.
اولین نفری باشید که دیدگاهی را ارسال می کنید برای “بررسی تأثیر گاز NO2 بر لایه های نازک و ضخیم نانوساختار سیلیکان متخلخل ” لغو پاسخ
دیدگاهها
هیچ دیدگاهی برای این محصول نوشته نشده است.